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全自動清潔度分析系統，可以精確快速地完成技術清潔度檢測環(huán)節(jié)中的光學分析，包括標準分析和深入分析，涵蓋濾膜掃描、顆粒結果復核和報表生成以及數據展現四個步驟，具有高可靠性和高精確性的檢測數據結果、直觀的用戶操作界面，以及傳統掃描速度兩倍的偏光一次掃描技術等多項技術特點。

1.     全自動檢測操作：使復雜的檢測流程簡單化，檢測人員易上手，智能化檢測。

2.     自動拍照 / 無縫拼接/先近圖像矯正技術 / 100分之圖像預覽：采用核心無縫拼圖技術，保證邊緣圖像無陰影暗角，超越進口設備拼接效果。

3.     超高自動化程度：一鍵操作，僅一次掃描。避免人為操作誤差，保證測量系統重復性，用戶無需復雜的專業(yè)知識，也可輕松完成清潔度檢測系統分析。

4.     顆粒算法：系統分析標準中包含多種顆粒尺寸定義，結合圖像算法，滿足不同客戶不同標準對顆粒的不同分析要求。

5.     精準回看：對目標顆粒ID回溯功能,進一步測量，判斷顆粒屬性，使數據更可靠。

6.     系統可自動設定符合 VDA19.1-2015/ISO16232-2018 規(guī)定的曝光時間和閾值。

7.     掃描后的所有顆粒可進行人工審閱復核和修改，修改結果實時自動更新：掃描檢測完的所有顆粒污染物可進一步人工審閱復核，對軟件誤判的顆粒及時進行刪除，拆分，合并和更改顆粒屬性。審閱修改的顆粒結果，在所有視圖和檢測結果中實時自動更新。

8.     用戶權限分級管理功能和中英文版本自由切換：全自動清潔度分析系統可以根據用戶管理賬號，按照管理員、用戶不同級別進行使用功能的分級受權，保障系統的校準數據、檢測標準設置等的安全，防止被操作員誤操作意外改動和刪除。

9.     SQL數據庫：常規(guī)分析系統只有顆粒數據及MAP圖儲存，無法數據統計。本系統增加了SQL數據庫統計功能，可選擇任意時間段查看并調出蕞大金屬顆粒、任意顆粒尺寸范圍數據，并以趨勢圖表述。可為生產過程控制提供直觀數據。

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